AIT Associated Repository of Academic Resources: 原子層堆積法によって形成したHf酸化膜の結晶相制御とその電気的特性

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タイトル:	原子層堆積法によって形成したHf酸化膜の結晶相制御とその電気的特性
その他のタイトル:	ゲンシソウタイセキホウニヨッテケイセイシタ Hf サンカマクノケッショウソウセイギョトソノデンキテキトクセイ
著者:	田岡, 紀之本山, 慎一小林, 貴之中村, 昌幸 TAOKA, Noriyuki MOTOYAMA, Shinichi KOBAYASHI, Takayuki NAKAMURA, Masayuki
キーワード:	ゲート絶縁膜強誘電体結晶相 HfO?
発行日:	2024年11月
出版者:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/4495
出現コレクション:	（2）プロジェク共同研究令和5年度研究成果概要

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総研26号プロジェクト共同研究成果概要18(p47-49).pdf		684.46 kB	Adobe PDF	見る/開く

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