|
AIT Associated Repository of Academic Resources >
A．研究報告 >
A2 総合技術研究所研究報告 >
26号 >
（2）プロジェク共同研究 令和5年度研究成果概要 >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/11133/4479
|
| タイトル: | 高周波超音波振動体の周波数における洗浄能力解析 |
| その他のタイトル: | コウシュウハ チョウオンパ シンドウタイ ノ シュウハスウ ニオケル センジョウ ノウリョク カイセキ |
| 著者: | 清家, 善之
森, 竜雄
田岡, 紀之
一野, 祐亮
本多, 祐二
疋田, 智美
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
TAOKA, Noriyuki
ICHINO, Yusuke
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi |
| キーワード: | 半導体デバイス
Chemical Mechanical Planarization（CMP）
Post-CMP クリーニング
超音波振動体
ポリスチレンラテックス（PSL）粒子 |
| 発行日: | 2024年11月 |
| 出版者: | 愛知工業大学 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11133/4479 |
| 出現コレクション: | （2）プロジェク共同研究 令和5年度研究成果概要
|
このリポジトリに保管されているアイテムは、他に指定されている場合を除き、著作権により保護されています。
|
English
